安捷伦推GoldenGate2012加速RFIC设计验证过程

   日期:2012-07-18    

  安捷伦(Agilent)推出旗下最新版的射频积体电路(RFIC)模拟、验证与分析软体--GoldenGate 2012,具有X参数萃取功能,可提升效能和可用性水准;GoldenGate 2012将于8月正式上市。

  Amalfi工程副总裁Alireza Shirvani表示,GoldenGate能支援新的X参数萃取功能,Amalfi将使用X参数来加速在晶粒模组介面的设计与协同模拟,并分享可将特殊细节加以编码的可执行电路模型。

  此外,GoldenGate 2012能为RFIC设计师提供许多可加速设计验证的强化技术、广泛可制造性设计(Design-for-Manufacturing)解决方案和更完善的系统设计连结,且新的授权模式,还可让使用者拥有更大的采购弹性。

  设计验证对现今RFIC设计师来说,是件繁琐又费时的工作。GoldenGate 2012透过提升技术来加快设计验证的过程,可让使用者设定分散式模拟,以最佳效能执行模拟,以及显示和分析大量的资料。

  安捷伦还以基本的GoldenGate模拟器授权的部分价格,为使用者提供广泛的「平行模拟授权」,该授权获得所有可启用平行模拟的环境,以及Cadence Virtuoso中的ADE-XL支援。

  至于GoldenGate 2012的X参数萃取关键功能,X参数是S参数的超集,可用于分析大输入功率位准下,非线性元件所产生的谐波之振幅和相对相位。新的X参数功能可让设计师撷取放大器等主动元件的非线性行为,并储存该资料供射频系统或电路设计的模拟模型快速取用,同时还能隐藏所有的智财元件。

  GoldenGate 2012改善RFIC模拟功能,并提供先进的分析和毫米波设计支援,以及符合无线标准的验证。这些及其他的增强功能,都是为了进一步提升软体的效能和可用性而设计。

  在可制造性设计方面的另一项增强功能,是可将GoldenGate 2012整合到MunEDA的WiCkeD工具套件,以执行电路的分析、大小调整与模型建立。这项整合可自动补偿制程变异与寄生的影响,并有助于减少射频电路的总消耗功率和杂讯。透过GoldenGate 2012,RFIC设计师将可以在先进制程节点,更有信心地开发出尖端的射频产品。

  另一方面,晶圆制造商与EDA的合作,对于确保在先进的RF制程节点达到精确矽制程(Silicon-Accurate)的结果同样很重要。安捷伦EEsof部门与各大RFIC制造商的密切合作,使GoldenGate得以持续符合新制程节点的要求。

  格罗方德(GLOBALFOUNDRIES)设计方法总监Richard Trihy指出,格罗方德承诺为客户提供专属的射频设计流程支援,以协助他们处理现今复杂的射频设计所带来的挑战。对GoldenGate的支援,可让格罗方德客户方便使用安捷伦证实可靠的射频/微波设计技术,接着格罗方德将致力于使安捷伦的RFIC解决方案,通过65奈米和55奈米制程节点认证。

  GoldenGate还包括Momentum,可用于三维(3D)平面电磁模拟;SystemVue和Ptolemy Wireless Test Benches,可用于系统层级的验证;以及ADS先进设计系统的Data Display,可用来执行复杂的资料分析。

 
  
  
  
  
 
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