最近，DPReview发表了一篇有关富士有机CMOS传感器的文章。文中介绍了富士新技术的相关内容，及CMOS传感器发明者EricFossum教授对该技术的分析和看法。
富士革命性的有机混合式传感器技术很有趣，但与现有的设计相比，也许并没有特别的优势，传感器技术专业EricFossum教授说道。富士公司近日已经注册了有机（基于碳化学）材料传感器的专利。联想到2009年富士公布的一份技术文件，关于富士新款微单相机将采用有机传感器的猜测已经出现，但Fossum教授与富士公司都表示，这项技术更有可能应用在小尺寸传感器上。
这项技术有什么不同？
富士传感器与现有的CMOS和CCD设计最大的区别在于，前者使用有机光电图层来实现光电转换，而非硅光电二极管。有机层感应光线并产生电子，然后由下层的CMOS电路进行“读取”。富士的内部技术文件中提到了这项技术的多个优势。首先，有机层可以覆盖整个传感器表面，增加感光面积。这意味着无需使用微透镜将光线聚集至特定的感光区域。同时也不需要将感光层分至每个感光点。这些特性都可使传感器的生产成本降低，富士的团队说道。此外，有机材料仅对可见光敏感，因此传感器前也无需安置IR滤镜。
着眼于细节
尽管需要获得更高的像素数以及随之而来的更小的像素元尺寸，（这项技术的）主要目的是制造出性能更好的传感器。富士技术文件的作者解释道：“尽管付出了无数努力来提高技术以得到更小的像素元尺寸，光线捕捉效率和CCD/CMOS传感器的感光度一直在减少。”
与使用硅感光层的技术不同，富士的传感器使用一种由对光敏感的碳化学物构成的涂层（图中深紫色）实现光电转换。
传感器技术专家（同时也是现代数码相机CMOS影像传感器的发明者）Fossum教授对这项研究印象深刻，但对富士声称的优势并未完全信服。“作为一名传感器技术人士，我要祝贺富士在研发上取得的进步，他们的成果很有趣。如果这份报告是对富士在2009年最先进技术的正确评估，我相信在从现在开始的数年内，这项技术就将迎来黄金时间，如果他们够幸运的话还会更快。”
除了诸如降低噪点（从文件中的38e-rms做到低于5e-rms）等问题之外，他们还需要解决有机层的大规模生产问题。当然他们有实力做到这一点，因为大部分传感器的RGB滤镜都使用富士的产品。不过RGB层材料是惰性的，并非电子活跃材料，所以在生产能力上还需要关注更多问题。
伟大的一步？
“就这项技术的商业化而言，必须视其产品在解决上述问题后，与业内其他同期产品相比的优势而定，”他说道。“他们的技术也许能得到更小的像素元，功能上类似全局快门，但这一点在硅材料设备上已经出现了。我不相信生产成本会是这项技术的核心优势，但它也是很重要的。我不相信它能具备什么常规传感器体系中的优势，比如感光度、噪点、动态范围之类，但这类事情是很难预测的。”
富士的传感器仅对可视范围内的光谱敏感，因此无需使用红外滤镜
“对富士来说，其核心优势之一在于这项技术完全掌握在自己手中。另一方面，这也意味着与CMOS传感器业内由一家公司向其他公司输出技术的合作方式（当然不是国际合作）不同，富士会成为一座孤岛，这将导致与其他公司相比较慢的技术进步。”
“我确实很喜欢高吸收率光电层的想法。我认为富士的有机光电层，或其他正在开发中的材料，对我自己的量子传感器也有启发。但是，我对富士工作的商业化优势不是很乐观。不过我对见识到新技术的出现和发展总是感到兴奋的。”
