本报讯由中国科学院电工研究所承担的中科院知识创新工程重大项目--“纳米级电子束曝光系统实用化”日前通过了专家验收。
纳米级电子束曝光系统是半导体、光电子、微机电系统和微结构研究的关键设备之一，它是电子光学、精密机械、真空技术、电子技术和计算机控制技术的综合集成。电工所完成的纳米级电子束曝光系统具有纳米级曝光分辨率，可进行图形拼接和图形套刻，具有完整的操作和控制软件。该设备既可以用于制作精密实验掩模版，也可以在工件上直接曝光。除了微电子产业应用外，由于其极高的分辨率，它也成为当今纳米制造和纳米分析的主要手段。
该项目瞄准国内急需的电子束曝光设备，在攻克实用化样机关键技术基础上，研制了3台以扫描电镜（SEM）为基础，配备以激光定位精密工件台、DSP为核心的多功能图形发生器、控制用微型计算机、真空系统、控制软件和自动输片机构的新型纳米级电子束曝光系统，供科研单位用于纳米科技和半导体前沿研究，满足我国科研机构和国防建设需要。
