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PECVD生长氮化硅介质膜的工艺研究

日期：2015-08-11 大小：0.19M

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对PECVD生长氮化硅介质膜的工艺条件进行了实验研究,获得了生长氮化硅介质膜的最佳工艺条件,制作出了高质量的氮化硅质膜.

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