膜厚仪的作用
膜厚仪可应用于在线膜厚测量,测氧化物,SiNx,感光保护膜和半导体膜.也可以用来测量镀在钢,铝,铜,陶瓷和塑料等上的粗糙膜层. 薄膜表面或界面的反射光会与从基底的反射光相干涉,干涉的发生与膜厚及折光系数等有关,因此可通过计算得到薄膜的厚度.光干涉法是一种无损,精确且快速的光学薄膜厚度测量技术,薄膜测量系统采用光干涉原理测量薄膜厚度。膜厚仪的特点
1,可以测量多层膜中每一层的厚度
2,三维的厚度型貌
3,远程控制和在线测量
4,可做150mm or 300mm 的大范围的扫描测试
5,丰富的材料库:操作软件的材料库带有大量材料的n和k数据,基本上的常用材料都包括在这个材料库中.用户也可以在材料库中输入没有的材料.
6,软件操作简单,测速快:膜厚测量仪操作非常简单,测量速度快:100ms-1s.
7,软件带有构建材料结构的拓展功能,可对单/多层薄膜数据进行拟合分析,可对薄膜材料进行预先模拟设计.
8,软件带有可升级的扫描功能,进行薄膜二维的测试,并将结果以2D或3D的形式显示.软件其他的升级功能还包括在线分析软件,远程控制模块等
膜厚仪的技术参数
厚度测量:10纳米-250微米; 可以选择250nm-1100nm间任一波长,也可在该范围内选择多波长分析;
波长: 250-1100nm
厚度范围: 10nm--250m
分辨率: 0,1nm
重复性: 0,3nm
准确率: <1[%] (100nm--100m)
测试时间: 100ms -- <1s
分析层数: 1-- 4
离光纤距离: 1-5mm
离镜头距离: 5mm-- 100mm
入射角度: 90°
光斑点大小: 400m
微光斑手段: 与显微镜联用,1-- 20m with Microscope 10x/20x/50x Magnification and MFA-Adapter;
光纤长度: 2m (other lengthes on request)
接口: USB 1.1 (RS-232)
电源需求: 12 VDC@1,2A, 220 VAC 50/60 Hz
尺寸: 180mm x 152 mm x 263mm
总量: 3.5 kg
